국가R&D로 수행 중인(또는 수행된) 연구과제 정보입니다. ■ 과제 개요 · 과제명: 고후막 포토레지스트용 고현상 저비용 레조시놀계 노볼락 수지 제조기술 개발 · 예산사업명: 중견중소기업상생형혁신도약사업(R&D) · 기준년도: 2026년 · 총 연구기간: 2026-04-01 ~ 2026-09-30 · 당해연도 연구기간: 2026-04-01 ~ 2026-09-30 · 수집 분야: 경영 ■ 수행 주체 · 과제수행기관: 티케이지휴켐스 주식회사 · 연구책임자: 최형삼 · 부처명: 산업통상부 ■ 연구비 (당해년도) · 정부투자연구비: 30,000,000원 · 총 연구비: 50,867,000원 ■ 한글키워드 · 레조시놀 노볼락, 고후막 포토레지스트, 고현상성, 현상속도 평가, 분자량 제어 기술 ■ 영문키워드 · Resorcinol-Modified Novolac, Thick-film Photoresist, High Developability, Dissolution Rate Evaluation, Molecular Weight Control Technology ■ 연구내용 - 상생협력 모델 구축: 중견기업인 TKG휴켐스의 인프라와 중소기업의 정밀 합성/정제/양산 기술을 유기적으로 결합하기 위한 기관별 역할 분담(R&R) 및 사업모델 구체화함. - 기술적 타당성 검증: 기존 고가 PHS 소재를 대체하기 위한 레조시놀계 노볼락 수지의 분자 … ■ 원문 확인 · 과제고유번호: 2410018100 · NTIS 과제상세페이지: https://www.ntis.go.kr/project/pjtInfo.do?pjtId=2410018100 (NTIS 로그인 후 조회할 수 있습니다) ※ 출처: 국가과학기술지식정보서비스(NTIS) — 공공저작물 제1유형(출처표시) 위에 없는 상세 정보는 NTIS 과제상세페이지에서 확인해 주세요.