국가R&D로 수행 중인(또는 수행된) 연구과제 정보입니다. ■ 과제 개요 · 과제명: 고밀도 저탄소 플라즈마 세정 장치 및 공정 기술 개발 · 예산사업명: 소재부품기술개발 · 기준년도: 2026년 · 총 연구기간: 2025-08-01 ~ 2028-12-31 · 당해연도 연구기간: 2026-02-01 ~ 2026-12-31 · 수집 분야: 경영 ■ 수행 주체 · 과제수행기관: (주)티티에스 · 연구책임자: 김광연 · 부처명: 산업통상부 ■ 연구비 (당해년도) · 정부투자연구비: 879,900,000원 · 총 연구비: 1,215,867,000원 ■ 한글키워드 · 고밀도 플라즈마, 저탄소, 플라즈마 밀도, 탄소 중립, 유기발광디스플레이 ■ 영문키워드 · High density plasma, Low carbon, Plasma density, Net-zero, OLED ■ 연구내용 본 연구개발과제는 8.6세대 저전력 고밀도 플라즈마 CVD 장비에 적용 가능한 고밀도 저탄소 플라즈마 세정 기술을 개발하는 것을 목표로 하며, 4년간 단계별로 저탄소 가스 공정, 장비 부품 국산화, 실증 및 양산 검증을 수행한다.1차년도에는 개념 설계와 기반 기술 … ■ 원문 확인 · 과제고유번호: 2410019028 · NTIS 과제상세페이지: https://www.ntis.go.kr/project/pjtInfo.do?pjtId=2410019028 (NTIS 로그인 후 조회할 수 있습니다) ※ 출처: 국가과학기술지식정보서비스(NTIS) — 공공저작물 제1유형(출처표시) 위에 없는 상세 정보는 NTIS 과제상세페이지에서 확인해 주세요.